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KrF光刻胶

产品应用


- 集成电路28-180nm 星空体育官网成为巴塞罗那亚洲区官方合作伙伴节点逻辑、存储、功率器件
- IMP、AA、gate、contact、poly，metal，via等工艺应用


产品特性

- 分辨率：0.12-0.4um

- 膜厚：0.3-3um

- 正负性，高深宽比，良好的工艺窗口，良好的解析度，低驻波/耐刻蚀
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分辨率：0.12-0.4um

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